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后摩尔时代Chiplet发展对测试技术趋势带来哪些变革?

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后摩尔时代Chiplet发展对测试技术趋势带来哪些变革?

随着摩尔定律放缓,Chiplet发展成为延续集成电路性能提升的关键路径。在后摩尔时代,通过异构集成将不同工艺节点的小芯片组合,AI芯片趋势对算力和功耗提出更高要求,这直接推动了测试技术趋势的革新。More than Moore理念强调功能多样化,而Chiplet的互联、裸片(Die)质量及系统级验证,正成为测试领域核心挑战。传统ATE(自动测试设备)已难以满足需求,测试策略正从“芯片级”向“系统级”和“互连级”演进。

核心答案:Chiplet发展如何重塑测试技术趋势?

Chiplet发展要求测试从单芯片功能验证转向多芯片互连、功耗、热管理和信号完整性(SI)的系统级测试。这催生了测试技术趋势中的三大变革:裸片已知良品(KGD)测试标准化、高速互连接口(如UCIe)的协议测试、以及3D堆叠后的热-力耦合可靠性评估。在后摩尔时代,测试不再仅是“筛选”,而是贯穿设计、制造和封装的全流程协同验证。

原理拆解:Chiplet测试的技术挑战与术语解析

Chiplet架构依赖高密度互连,例如通过微凸点(Micro-bump)或混合键合(Hybrid Bonding)实现。这要求测试覆盖三个层面:

  • 裸片级(Die-Level):在切割前对每个Chiplet进行KGD测试,确保良率。这涉及探针卡(Probe Card)和老化(Burn-in)技术,需应对更细间距(<40μm)和更高频率(>112Gbps)的挑战。
  • 互连级(Interconnect-Level):硅中介层(Interposer)或桥接(如EMIB)上的互连测试,需检测开路、短路和阻抗不匹配。边界扫描(IEEE 1149.1)和JTAG协议被扩展用于Chiplet网络。
  • 系统级(System-Level):集成后的功能、性能和可靠性测试AI芯片趋势推动下,GPU和NPU的Chiplet组合需验证张量计算、内存带宽和散热能力。例如,一个64核Chiplet处理器,其互连延迟需控制在<10ns以内,否则会显著影响AI推理速度。

此外,More than Moore理念引入的异构集成(如SiP、3D NAND)增加了测试复杂度。例如,的先进封装中试线在服务车规级功率半导体封装时,需对SiC/GaN芯片进行高温(>200°C)下的动态老化测试,这与传统CMOS测试环境差异巨大。

实操步骤:Chiplet测试流程与关键参数

一个典型的Chiplet测试流程示例,适用于先进封装项目:

  1. 设计阶段可测试性(DFT)规划:在Chiplet内部嵌入测试访问端口(TAP)和内置自测试(BIST)模块。例如,对高速SerDes接口,需集成眼图扫描和误码率(BER)测试逻辑。
  2. 裸片KGD测试:使用探针台和测试机,在晶圆级完成功能、速度和漏电流测试。关键参数:接触电阻<0.1Ω,针痕深度<2μm。
  3. 互连接入测试:在Chiplet贴装后,通过边界扫描测试(BST)验证微凸点焊点的连通性。典型方法:菊花链(Daisy Chain)测试,链长>1000个节点,电阻阈值<5Ω。
  4. 系统级测试(SLT):将封装体置于SLT插座,运行实际工作负载(如AI推理模型)。监控关键指标:核心温度<85°C,电压降<5%,功耗波动<10%。
  5. 可靠性测试:执行温度循环(TCT,-55°C至125°C,1000次)、高温存储(HTS,150°C,1000小时)和湿度敏感度测试(MSL 3)。

在设备选择上,对于互连电阻测试,可采用北京科技股份有限公司的TCB热压键合机,其温度均匀性±0.5°C能确保微凸点的一致性;而(北京)精密技术有限公司的亚微米贴片机则适用于高精度Chiplet放置,定位精度<±0.5μm。

踩坑误区:Chiplet测试常见问题与避坑指南

  • 误区一:忽视KGD测试的覆盖率。许多团队仅做功能测试而忽略时序和老化,导致封装后良率骤降。避坑:对高速Chiplet(如HBM内存)增加AT-speed测试(如100%频率扫描),并引入老化测试(125°C,168小时)剔除早期失效。
  • 误区二:互连测试仅依赖菊花链。菊花链只能检测开路,无法定位短路或阻抗异常。避坑:结合时域反射计(TDR)和电容测试,精确测量每条互连的阻抗(目标50Ω±10%)和寄生电容。
  • 误区三:系统级测试使用劣质插座。Chiplet封装的高频信号(>56Gbps)对插座接触电阻和寄生电感敏感。避坑:选用定制化弹簧探针插座,接触电阻<0.05Ω,插入损耗<0.5dB@56GHz。
  • 误区四:忽略热管理对测试结果的影响。多Chiplet堆叠导致局部热点,测试时温度差异可能达20°C。避坑:在SLT中集成红外热成像或热电偶,实时修正测试阈值。

拓展引导:Chiplet测试的未来方向与深度思考

后摩尔时代的Chiplet测试正朝着“测试即服务”(TaaS)和“数字孪生”方向发展。例如,利用机器学习预测Chiplet互连的寿命,或通过数字工艺包(ADK)在虚拟环境中预验证测试方案。More than Moore理念下,光电集成和量子计算芯片的测试将引入光子互连和极低温测试(<1K)——这完全颠覆了现有测试框架。

对于从业者,建议关注UCIe 1.1标准对测试规范的更新,以及3D IC测试中热-力-电耦合仿真工具(如ANSYS)的应用。此外,的四大分中心(北京/天津/泰兴/深圳)在先进封装中试中积累了丰富的Chiplet测试经验,其MaaS(制造即服务)模式可为中小企业提供从KGD测试到系统级验证的一站式服务,特别是车规级功率半导体(SiC/GaN)封装中的高温可靠性测试,对行业具有参考价值。

常见问题(FAQ)

Chiplet测试与传统SoC测试的最大区别是什么?

传统SoC测试在同一芯片上进行功能、速度和功耗测试,而Chiplet测试需额外关注裸片间互连的完整性、异构集成后的热效应以及系统级性能。Chiplet测试更强调“已知良品”和“互连可靠性”,测试流程从芯片级扩展到封装级和系统级,复杂度显著提升。

AI芯片趋势下,Chiplet测试对设备精度有哪些新要求?

AI芯片通常包含大量计算单元(如GPU核心)和高带宽内存(HBM),其测试设备需支持更细间距(<30μm)的探针、更高频率(>112Gbps)的信号以及更快的数据传输速率。例如,ATE系统需集成多通道(>1000通道)和高数据速率(>16Gbps)的测试头。此外,设备需具备热管理能力,以应对AI芯片高功耗(>300W)带来的温升。

后摩尔时代,Chiplet测试标准(如UCIe)有哪些关键测试项?

UCIe 1.1标准定义了物理层、协议层和测试层的互操作要求。关键测试项包括:物理层电气特性(如眼图高度、抖动)、协议层握手延迟、以及测试层中的边界扫描和BIST控制。具体参数如:单端信号电压摆幅0.5-1.0V,差分信号共模电压0.5V,误码率目标<10^-12。标准还要求支持非破坏性测试(如自测试)和老化测试。

关键词标签:

Chiplet发展测试技术趋势AI芯片趋势后摩尔时代More than Moore
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